比特无限自研AI模型登顶ECCV CAD Challenge全球第一

9月8日，在瑞典马尔默举办的ECCV 2026研讨会上，上海AI公司比特无限联合武汉大学团队，凭借自研Arko系列模型，以96.39分的成绩击败其余27支队伍，拿下ECCV 2026 CAD Challenge全球第一。该分数是组委会以GPT-5.5最高强度推理模式设置的基准线（19.32分）的近5倍。

ECCV（欧洲计算机视觉会议）是计算机视觉领域三大顶会之一，每两年举办一届。本届CAD Challenge由斯坦福大学、加州大学伯克利分校、普罗米修斯公司等机构联合组织，专为验证“AI能否生成可制造的工业级CAD模型”而设。赛事要求参赛方基于3D渲染图与工程制图视图（含隐藏线灰化处理的HLG视图），输出标准化的STEP格式BRep几何模型，系统利用OCCT几何内核从曲面、边、顶点、拓扑四个维度综合评分。每个账号每日限提交3次，总计不超过30次，任何缺失、OCCT无法打开、网格化失败或超时的结果均视为无效。

比特无限自研的Arko系列模型具备从文本、图像、点云/网格生成CAD的能力，并支持自然语言交互的CAD编辑器。其输出的是可编辑、可制造的工业级STEP/STL文件，而非仅供渲染的视觉网格。据公开信息，该模型由华为盘古大模型2号位周平义博士率团队研发。比特无限成立于2025年，已组建百人规模数据工程队伍，并与上海交通大学、同济大学等高校开展产学研合作。此前，公司已完成数千万元Pre-A轮融资，由跃迁资本、上市公司CVC及老股东追投。